[发明专利]一种具有隧穿结构的深紫外LED及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111076064.6 申请日: 2021-09-14
公开(公告)号: CN113809211A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 张毅;张骏;岳金顺 申请(专利权)人: 苏州紫灿科技有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 代理人: 张璐
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有隧穿结构的深紫外LED及其制备方法,该具有隧穿结构的深紫外LED由下至上依次设置有蓝宝石衬底、AlN缓冲层、AlN本征层、n型AlGaN电子注入层、量子阱有源层、p型AlGaN电子阻挡层、GaN隧穿层以及n型AlGaN接触层,p型AlGaN电子阻挡层、GaN隧穿层以及n型AlGaN接触层构成复合隧穿结构。本发明提供了一种具有隧穿结构的深紫外LED及其制备方法,通过P‑AlGaN/i‑GaN/n‑AlGaN复合隧穿结构来提高注入到量子阱中的载流子浓度,进而提高深紫外LED的量子效率。
搜索关键词: 一种 具有 结构 深紫 led 及其 制备 方法
【主权项】:
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