[发明专利]垂直腔面发射激光器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111014257.9 申请日: 2021-08-31
公开(公告)号: CN113725728B 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 王延靖;佟存柱;田思聪;汪丽杰;陆寰宇;张新;王立军 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183
代理公司: 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 代理人: 高一明;郭婷
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供一种垂直腔面发射激光器及其制备方法,其中的垂直腔面发射激光器包括从下至上依次制备的衬底、第一p型接触层、第一垂直腔面发射激光器层、n型接触层、第二垂直腔面发射激光器层和第二p型接触层;其中,第一垂直腔面发射激光器层包括第一有源层,第二垂直腔面发射激光器层包括第二有源层;第二垂直腔面发射激光器层的台面面积小于第一垂直腔面发射激光器层的台面面积;第一垂直腔面发射激光器层的激射波长大于或等于第二垂直腔面发射激光器层的激射波长。相较于现有技术,本发明提供的垂直腔面发射激光器能够在实现光信号高速率输出的同时实现高功率输出。
搜索关键词: 垂直 发射 激光器 及其 制备 方法
【主权项】:
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