[发明专利]一种提高脉冲激光沉积薄膜均匀性与面积的光学沉积系统与方法有效
| 申请号： | 202110998579.5 | 申请日： | 2021-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN113718205B | 公开（公告）日： | 2022-10-25 |
| 发明（设计）人： | 马飞;王琛;路文墨 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学;陕西煤业化工技术研究院有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/54 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 王艾华 |
| 地址： | 710049 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高脉冲激光沉积薄膜均匀性与面积的光学沉积系统与方法，该系统依次设置有真空腔体、透镜滑轨、反射镜滑轨和脉冲激光器。该系统能够制备大面积均匀薄膜的弊端。通过控制入射激光位置和脉冲发射的时机、数量，使得从靶材溅射出的等离子体均匀覆盖在基体表面，以获得大面积均匀的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 脉冲 激光 沉积 薄膜 均匀 面积 光学 系统 方法 | ||
【主权项】：
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