[发明专利]基于刻蚀约束体系的电解质溶液及液晶聚合物基板的微孔制作方法在审
| 申请号： | 202110993064.6 | 申请日： | 2021-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN113811085A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 王峰;刘喜梅;柴志强;潘丽 | 申请（专利权）人： | 青岛科技大学;安捷利电子科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/00 | 分类号： | H05K3/00;H05K3/06;H05K3/07;C25F3/14 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 俞春雷 |
| 地址： | 266061 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于刻蚀约束体系的电解质溶液，所述电解质溶液用于对液晶聚合物基板的铜层和液晶聚合物层进行刻蚀并形成微孔；所述电解质溶液包括刻蚀剂前驱体和约束剂；所述电解质溶液包括分别对铜层和液晶聚合物层进行刻蚀的铜层电解质溶液和液晶聚合物层电解质溶液；所述铜层的电解质溶液中的刻蚀剂前驱体为FeCl |
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| 搜索关键词： | 基于 刻蚀 约束 体系 电解质 溶液 液晶 聚合物 微孔 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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