[发明专利]一种应用于钕铁硼表面处理的超薄镀层电镀方法有效
| 申请号： | 202110991972.1 | 申请日： | 2021-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN113699567B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 唐金华;周小雄 | 申请（专利权）人： | 杭州象限科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D5/14 | 分类号： | C25D5/14;C25D3/56;C25D3/38;C25D3/12;C25D7/00 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 龚如朝 |
| 地址： | 311500 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应用于钕铁硼表面处理的超薄镀层电镀方法，它在钕铁硼基材表面进行镀层，从里到外分别为电镀冲击铜层、电镀脉冲铜层、电镀镍钨合金层、低速化学镍镀层和高磷化学镍镀层；其中，钕铁硼基材表面镀层的总厚为4~4.5μm，电镀冲击铜层的厚度为0.5~0.6μm，电镀脉冲铜层的厚度为0.8~1.0μm，电镀镍钨合金层的厚度为0.3~0.5μm，低速化学镍镀层的厚度为0.4~0.5μm。现有常规化学镀镍只有一层常规高磷化学镍，本发明采用双层化学镀镍，即再正常镀高磷化学镍前，先采用低镀速低孔隙率的特殊化学镍先镀至约0.4~0.5微米，然后转入常规高磷化学镍镀至所需厚度。与现有技术相比，本发明主在要提升镀层质量及性能方面，优势明显，耐腐蚀性更好，磁屏蔽更低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 钕铁硼 表面 处理 超薄 镀层 电镀 方法 | ||
【主权项】：
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