[发明专利]电极、干蚀刻设备和制造电极的方法有效

专利信息
申请号: 202110984975.2 申请日: 2021-08-26
公开(公告)号: CN113436956B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 蔡广云;黄来国;权太植;金珉成;陶源;顾为飞 申请(专利权)人: 湖北灿睿光电科技有限公司;合肥微睿光电科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/3065
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 430073 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请涉及一种电极、干蚀刻设备和制造电极的方法。电极包括:铝基板(12),包括反应性气体的入口侧表面(13)和与入口侧表面(13)相对的反应性气体的出口侧表面(15),其中铝基板(12)还包括从入口侧表面延伸至出口侧表面(15)的多个均匀分布的贯通孔,贯通孔包括进气通道和与进气通道连通的安装孔(17);以及多个嵌入体,每个嵌入体(14)由陶瓷制成并且从出口侧表面(15)被嵌入安装至安装孔,其中每个嵌入体(14)包括出气通道,出气通道与进气通道连通以使得来自入口侧表面的反应性气体进入进气通道并且通过出气通道而离开出口侧表面。根据本申请的电极能够显著提高电极的耐久性进而提高使用寿命。
搜索关键词: 电极 蚀刻 设备 制造 方法
【主权项】:
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