[发明专利]一种真空蒸发镀膜设备在审
| 申请号： | 202110978455.0 | 申请日： | 2021-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN113930739A | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 陶利松 | 申请（专利权）人： | 杭州乾智新材料研究有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/30;C23C14/52 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 黎双华 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种真空蒸发镀膜设备，包括真空腔体，所述真空腔体内顶部设有中心回转机构，中心回转机构下端连接有用于放置待镀膜基板的工件盘，真空腔体内底部设有离子源装置以及用于蒸发镀膜材料的蒸发装置，真空腔体内设有加热装置，所述蒸发装置包括电子发生器、罐状水冷机构，罐状水冷机构环绕设于电子发生器外围，工件盘设有温度传感器，真空腔体外设有控制器，控制器根据温度传感器检测得到的温度控制罐状水冷机构的冷水循环。优点为：可即时将电子发生器多余的辐射热带出，避免温度过高而使基板翘曲等；可根据实时温度控制冷水循环，不仅避免了腔体内温度过高，也避免了热量浪费；设备特别适用于低温镀膜需求的基板，如小于1mm厚的微纳晶。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 蒸发 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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