[发明专利]一种真空蒸发镀膜设备

权利要求书

1.一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，包括真空腔体，所述真空腔体内顶部设有中心回转机构，中心回转机构下端连接有用于放置待镀膜基板的工件盘，真空腔体内底部设有离子源装置以及用于蒸发镀膜材料的蒸发装置，真空腔体内设有加热装置，所述蒸发装置包括电子发生器、罐状水冷机构，罐状水冷机构环绕设于电子发生器外围，工件盘设有温度传感器，真空腔体外设有控制器，控制器根据温度传感器检测得到的温度控制罐状水冷机构的冷水循环。

2.根据权利要求1所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，罐状水冷机构包括罐体，罐体内部中空，罐体外壁环绕设有冷却水盘管，冷却水盘管与真空腔体外冷却水系统连通。

3.根据权利要求2所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，罐体端面设有多个定位孔，真空腔体内底部设有多个定位柱，通过定位柱、定位孔以将罐体可拆卸式安装于真空腔体内底部。

4.根据权利要求3所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，真空腔体内底部可拆卸设有底护板，定位柱设于底护板上，底护板的底面设有多个底护板支撑柱，所述离子源装置、蒸发装置均突出于底护板。

5.根据权利要求4所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，冷却水盘管穿过底护板与真空腔体外冷却水系统连通。

6.根据权利要求4所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，蒸发装置还包括第一挡板机构，第一挡板机构包括第一支杆、第一转板，第一支杆位于罐状水冷机构旁侧并竖直安装于底护板上，第一转板位于电子发生器上侧并转动安装于第一支杆。

7.根据权利要求4所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，离子源装置包括离子束发生器、第二挡板机构，第二挡板机构包括第二支杆、第二转板，第二支杆位于离子束发生器旁侧并竖直安装于底护板上，第二转板位于离子束发生器上侧并转动安装于第二支杆。

8.根据权利要求1所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，真空腔体内位于工件盘下方的侧壁处设有一对膜厚修正板，膜厚修正板与真空腔体内壁转动连接。

9.根据权利要求2所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，真空腔体侧壁设有真空腔体门，真空腔体门设有视窗，罐体侧壁设有与视窗相应的预留观察窗口。

10.根据权利要求2所述的一种真空蒸发镀膜设备，其特征在于，罐体还包括罐体内壁，罐体内壁与罐体外壁焊接成一整体，罐体内壁采用不锈钢、铸铁、合金钢材质中的任意一种，罐体外壁、冷却水盘管均采用铜材料。