[发明专利]碳化硅炉专用坩埚升降旋转机构在审

专利信息
申请号: 202110974686.4 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN113758252A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 夏孝平;贺贤汉;徐淑文;张城 申请(专利权)人: 上海汉虹精密机械有限公司
主分类号: F27B14/04 分类号: F27B14/04;F27B14/08;F27B14/10
代理公司: 上海申浩律师事务所 31280 代理人: 赵建敏
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本发明涉及半导体设备领域。碳化硅炉专用坩埚升降旋转机构,包括升降机构,升降机构的升降滑台上安装有旋转机构,旋转机构包括旋转轴,旋转轴通过磁流体旋转密封件与升降滑台转动连接;磁流体旋转密封件的外围与波纹管装置的下端相连,波纹管装置的上端为用于连接碳化硅炉底腔的波纹管上法兰;旋转轴的下端转动连接有旋转接头,旋转接头上设有进水口和出水口;旋转轴内设有冷却回路,冷却回路的一端与进水口导通,冷却回路的另一端与出水口导通。本专利通过增设有磁流体旋转密封件,起到旋转作用和高真空密封作用。便于实现了旋转处与碳化硅炉内腔的高密封性,进而可以保证碳化硅炉内腔的高真空度,适用于第三代半导体材料的加工生产。
搜索关键词: 碳化硅 专用 坩埚 升降 旋转 机构
【主权项】:
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