[发明专利]离子化装置性能的评价方法及装置

摘要

本发明提供了一种离子化装置性能的评价方法及装置，所述离子化装置性能的评价方法包括以下步骤：(A1)收集单元设置在所述离子化装置的离子出口和质谱进样口之间，用于收集从所述离子出口出射的离子流的信息；(A2)检测所述收集单元，多次获得收集单元的电学参数Ai，i＝1,2,3…N，N为整数；(A3)根据所述电学参数Ai，获得评价参数C；(A4)根据所述评价参数C，获得所述离子化装置的评价结果：若所述评价参数C＞C0，阈值C0∈[0.05,0.15]，所述离子化装置不合格；若所述评价参数C≤C0，所述离子化装置合格。本发明具有评价科学、准确等优点。