[发明专利]离子化装置性能的评价方法及装置

说明书

本发明提供了一种离子化装置性能的评价方法及装置，所述离子化装置性能的评价方法包括以下步骤：(A1)收集单元设置在所述离子化装置的离子出口和质谱进样口之间，用于收集从所述离子出口出射的离子流的信息；(A2)检测所述收集单元，多次获得收集单元的电学参数Asubgt;i/subgt;，i＝1,2,3…N，N为整数；(A3)根据所述电学参数Asubgt;i/subgt;，获得评价参数C；(A4)根据所述评价参数C，获得所述离子化装置的评价结果：若所述评价参数C＞Csubgt;0/subgt;，阈值Csubgt;0/subgt;∈[0.05,0.15]，所述离子化装置不合格；若所述评价参数C≤Csubgt;0/subgt;，所述离子化装置合格。本发明具有评价科学、准确等优点。

技术领域

本发明涉及质谱离子化装置，特别涉及离子化装置性能的评价方法及装置。

背景技术

质谱分析技术具有灵敏度高、特异性好等特点，在痕量分析中具有难以替代的作用。直接质谱离子化装置作为质谱仪器关键零部件，其工程化和产业化发展对我国质谱仪器产业的发展具有极大的促进作用。

近年来，直接质谱离子化技术是分析领域的一场新革命，其具有样品用量少、分析速度快、支持实时原位检测、检测成本低等优点，实现了质谱技术在现场高通量分析中的应用，是公共安全、食品安全、药物分析、生命科学等领域强有力的检测“武器”。

现代直接质谱离子化技术以ESI为发端，陆续发展了DESI、DART等，国内学者也发展了EESI、DBDI、DAPCI、AFAI等直接电离技术，其中较为成熟并形成商品化产品的有10余种之多。但存在以下的共性问题：

1.不同直接质谱离子化装置原理各异，性能特点和应用侧重点也不尽相同。但由于缺乏统一的标准和规范，直接质谱离子化装置在研发、制造、检验和验收等过程中存在性能指标、检验方法等诸多不规范、不统一的问题，容易引起争议。

2.缺乏统一的验收标准和规范，在很大程度上导致直接质谱离子化装置行业的无序竞争，不利于提升我国质谱领域核心技术和部件自主创新能力和产业发展。

现有的研究主要集中在质谱仪器内部离子检测端，并未对敞开式离子源技术的效果进行性能检测分析，极大增加敞开式环境下样品检测结果的影响因素剖析，因此缺少一种离子化装置性能评价装置及评价方法。

发明内容

为解决上述现有技术方案中的不足，本发明提供了一种评价科学、评价效果好的离子化装置性能的评价方法。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：

离子化装置性能的评价方法，所述离子化装置性能的评价方法包括以下步骤：

（A1）收集单元设置在所述离子化装置的离子出口和质谱进样口之间，用于收集从所述离子出口出射的离子流的信息；

（A2）检测所述收集单元，多次获得收集单元的电学参数A_i，i=1,2,3…N，N为整数；

（A3）根据所述电学参数A_i，获得评价参数C；

，；

（A4）根据所述评价参数C，获得所述离子化装置的评价结果：

若所述评价参数CC₀，阈值C₀∈[0.05,0.15]，所述离子化装置不合格；

若所述评价参数C≤C₀，所述离子化装置合格。

本发明的另一目的在于提供了离子化装置性能的评价装置，该发明目的是通过以下技术方案得以实现的：

离子化装置性能的评价装置，所述离子化装置性能的评价装置包括：