[发明专利]一种大角度宽波段减反射膜及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202110941325.X 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN113721310A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 沈伟东;王海兰;杨陈楹;李强;张占军;金永红;章岳光;郑婷婷;陈潇 申请(专利权)人: 浙江大学;东莞市宇瞳光学科技股份有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;G02B27/00
代理公司: 杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙) 33315 代理人: 黄燕
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种大角度宽波段减反射膜,包括基底,还包括设于基底上的高/低折射率交替膜堆以及设于高/低折射率交替膜堆顶面的纳米结构超低折射率膜层。本发明基于成熟的薄膜沉积技术以及简单快速的水腐蚀法,通过简便的操作控制渐变折射率膜层的厚度以及等效折射率,结合多层膜结构来调整大角度下宽波段的剩余反射率,适于大面积批量化生产,从而使得减反射膜成本大大降低,有望在光学元件、传感器、成像光学系统和太阳能电池等产品中广泛应用,为我国国民经济、社会发展、科学技术和国防建设等领域作出贡献。
搜索关键词: 一种 角度 波段 减反射膜 及其 制作方法
【主权项】:
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