[发明专利]一种大角度宽波段减反射膜及其制作方法

权利要求书

1.一种大角度宽波段减反射膜，包括基底，其特征在于，还包括设于基底上的高/低折射率交替膜堆以及设于高/低折射率交替膜堆顶面的纳米结构超低折射率膜层。

2.根据权利要求1所述的大角度宽波段减反射膜，其特征在于，所述纳米结构超低折射率膜层为草状氧化铝纳米结构层。

3.根据权利要求1所述的大角度宽波段减反射膜，其特征在于，所述纳米结构超低折射率膜层为利用去离子水处理氧化铝薄膜得到的渐变折射率层。

4.根据权利要求1所述的大角度宽波段减反射膜，其特征在于，所述纳米结构超低折射率膜层提供了一种与低折射率膜层相匹配的等效膜层。

5.根据权利要求1所述的大角度宽波段减反射膜，其特征在于，所述纳米结构超低折射率膜层的物理厚度为200～250nm。

6.根据权利要求1所述的大角度宽波段减反射膜，其特征在于，所述纳米结构超低折射率膜层由下述方法得到：将氧化铝薄膜置于去离子水中浸泡温度为60℃-90℃，浸泡时间为30min-5h。

7.根据权利要求1所述的大角度宽波段减反射膜，其特征在于，所述高/低折射率交替膜堆中，高折射率材料选自二氧化钛、氧化铪、氧化铌、氧化锆、氧化钽、氮化硅、钛酸镧、锗中的一种或多种；低折射率材料选自氧化硅、氧化铝、氟化物、硫化锌和硒化锌中的一种或多种。

8.根据权利要求1的所述大角度宽波段减反射膜，其特征在于，所述高/低折射率交替膜堆中，高折射率膜层数量为1-20，厚度为5-300nm；低折射率膜层数量为1-20，厚度为5-350nm。

9.根据权利要求1～8任一项所述的大角度宽波段减反射膜，其特征在于，当所述高/低折射率交替膜堆最外层材料折射率与所述纳米结构超低折射率膜层的折射率不匹配时，所述高/低折射率交替膜堆与纳米结构超低折射率膜层之间设有缓冲层。

10.一种权利要求1～9任一项所述的大角度宽波段减反射膜的制备方法，其特征在于，包括：

(1)确定纳米结构超低折射率膜层厚度后，根据所要求的减反射膜的带宽要求和反射率要求，通过优化各层薄膜的厚度确定高/低折射率交替膜堆采用的材料、层数、厚度；当设置缓冲层时，同时确定缓冲层的材料、厚度；

(2)采用真空镀膜在基底上依次沉积高/低折射率交替膜堆，并在高/低折射率交替膜堆最外层覆盖设定厚度的纳米结构超低折射率膜层对应的前体膜层；当设置缓冲层时，先在高/低折射率交替膜堆最外层覆盖缓冲层，然后再在缓冲层外表面覆盖设定厚度的纳米结构超低折射率膜层对应的前体膜层；

(3)对上述前体膜层进行加工，得到所述纳米结构超低折射率膜层，最终得到所述大角度宽波段减反射膜。