[发明专利]基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202110890042.7 | 申请日： | 2021-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN113707781A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 石志清 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/38 | 分类号： | H01L33/38;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 黄舒悦 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开一种基板及其制备方法。所述基板包括衬底、沉积电极以及发光层。其中，沉积电极设置在所述衬底上。所述沉积电极包括第一电极和第二电极。所述第一电极与所述第二电极绝缘设置。所述第一电极于所述衬底所在平面的正投影为第一投影，所述第二电极于所述衬底所在平面的正投影为第二投影，所述第一投影的至少部分位于所述第二投影的外侧。所述发光层设置在所述沉积电极上。本申请可以调控发光层的形貌，得到平整的发光层，提高基板的出光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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