[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板在审
申请号: | 202110866526.8 | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN113589605A | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 孔曾杰;郭会斌;乔亚峥;沈鹭;代耀 | 申请(专利权)人: | 武汉京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 430040 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板,涉及显示技术领域,该阵列基板能够避免因栅线的拖尾现象导致的栅线与驱动电极间的电容增大的问题,进而降低产品的信赖性不良,从而提升产品品质。该阵列基板包括阵列排布的多个子像素;子像素包括:衬底、以及依次叠层设置在衬底上的第一电极层和第二电极层;第一电极层至少包括驱动电极和缓冲部;缓冲部位于驱动电极的一侧;第二电极层至少包括栅线;栅线设置在缓冲部远离衬底的一侧,栅线覆盖缓冲部、且与驱动电极沿垂直于衬底的方向不交叠。本申请适用于阵列基板的制作。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】:
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