[发明专利]一种薄膜晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110849437.2 申请日: 2021-07-27
公开(公告)号: CN113471299B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 蒋书森;张玉龙;吕文龙;崔景芹 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/06;H01L21/336
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 李博
地址: 361005 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种薄膜晶体管,包括自下到上依次设置的栅极、绝缘层和有源层;所述有源层上设置有源电极和漏电极;所述有源层包括在绝缘层表面依次交替层叠排列的氧化铟层和氧化钛层。本发明通过将有源层设置为交替层叠排列的氧化铟层和氧化钛层,将Ti4+引入到有源层中,利用Ti4+与O2‑较强的结合能,抑制了薄膜晶体管中的氧缺陷,从而有效调控有源层载流子的浓度,进而提高了薄膜晶体管的电流开关比。实施例的结果显示,本发明提供的薄膜晶体管具有良好的电学性能,电流开关比为不低于105,亚阈值摆幅为0.58~0.68V/dec,低阈值电压为0.52~1.06V。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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