[发明专利]一种外延结构和发光二极管有效

专利信息
申请号: 202110831413.4 申请日: 2021-07-22
公开(公告)号: CN113659047B 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 叶大千 申请(专利权)人: 厦门三安光电有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32
代理公司: 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 代理人: 王立红
地址: 361100 福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 本申请公开一种外延结构和发光二极管,包括n型层、p型层和有源层,有源层包括In的具有第一峰形的第一浓度轮廓;重掺杂层位于n型层和有源层之间,且包括Si的具有第二峰形的第二浓度轮廓;电流扩展层位于重掺杂层和有源层之间,且包括In的具有第三峰形的第三浓度轮廓;第三峰形的峰顶与第一峰形的峰顶的最小距离为D1,第三峰形的峰顶与第二峰形的峰顶的最小距离为D2,且D1与D2的比值小于1:7。电流扩展层尽可能接近有源层并在受到静电冲击时有效引导冲击电流,保护有源层不易被静电击穿;同时,电流扩展层与重掺杂层之间的区域为电子存储区,在受到静电冲击时可降低外延结构被静电击穿的风险,从而提升外延结构和发光二极管的抗静电能力。
搜索关键词: 一种 外延 结构 发光二极管
【主权项】:
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