[发明专利]基片处理装置和基片处理方法在审
| 申请号： | 202110813658.4 | 申请日： | 2021-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN114054237A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 东广大;林圣人;野口耕平 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05B9/04 | 分类号： | B05B9/04;B05B12/08;B05B12/14;B05B13/02 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种对流通有要供给到基片的液体的供给路径中的杂质进行光学检测的基片处理装置和基片处理方法。该基片处理装置包括：使要供给到基片的液体流通的供给路径；和杂质检测单元，其基于信号来检测所述液体中的杂质，其中所述信号是由投光部向形成所述供给路径的一部分的流路形成部照射作为近红外线的光而使光从所述流路形成部发出后，受光部接收从所述流路形成部发出的光而得到的信号。根据本发明，能够使基片处理装置应用更多种类的液体。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110813658.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
