[发明专利]高反射纳米薄膜及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110811822.8 申请日: 2021-07-19
公开(公告)号: CN113502453B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 于海亮;朱斌;陈小群 申请(专利权)人: 蓝思科技(长沙)有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18;C23C14/24;C23C14/35;G02B1/10;G02B5/08;G02B5/28;H04M1/02
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 宋南
地址: 410100 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种高反射纳米薄膜及其制备方法和应用,涉及镀膜技术领域,该薄膜包括自下而上依次设置的基材、厚度10‑30nm的过渡层、厚度6‑15nm的第一高折射率层、厚度65‑80nm的第一低折射率层、厚度50‑65nm的第二高折射率层、厚度10‑90nm的第二低折射率层、厚度为25‑90nm的金属层和厚度25‑70nm的第三低折射率层;第二低折射率层和第三低折射率层的厚度之和与金属层的厚度之比为1:(1‑3);高反射纳米薄膜的膜厚≤440nm。本发明在较薄膜厚下即可达到反射≥95%的反射效果,且镀层满足信赖性要求,满足客户对陶瓷、玻璃或者宝石表面外观视觉效果个性化要求。
搜索关键词: 反射 纳米 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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