[发明专利]包括折射结构的像素感测器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202110776833.7 申请日: 2021-07-09
公开(公告)号: CN114628417A 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 陈威霖;周俊豪;李国政 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种包括折射结构的像素感测器及其形成方法,像素感测器可包括该像素感测器的一基板中的一主深沟槽隔离(DTI)结构及一或多个子DTI结构,以增大该像素感测器在较大入射角下的量子效率。该一或多个子DTI结构可定位于该主DTI结构的周边内且一光电二极管上方。该一或多个子DTI结构可用以提供入射光的自大的入射角至该光电二极管中的一行进路径在于,该一或多个子DTI结构可填充有一氧化物材料以增大至该一或多个子DTI结构中的光穿透。此情形可减小该基板的一顶表面处的反射,借此准许入射光折射至该基板中且折射朝向该光电二极管。
搜索关键词: 包括 折射 结构 像素 感测器 及其 形成 方法
【主权项】:
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