[发明专利]一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物有效

专利信息
申请号: 202110771869.6 申请日: 2021-07-08
公开(公告)号: CN113528253B 公开(公告)日: 2023-04-11
发明(设计)人: 刘小勇;李丛香;房龙翔;叶鑫煌 申请(专利权)人: 福建省佑达环保材料有限公司
主分类号: C11D1/88 分类号: C11D1/88;C11D3/04;C11D3/06;C11D3/20;C11D3/22;C11D3/33;C11D3/60;C23G1/14
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 俞舟舟;蔡学俊
地址: 362800 福建省泉*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明属于表面活性剂技术领域,具体涉及一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物,按质量百分数之和为100%计,包括0.1‑5%的特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂,5‑20%无机强碱性物质,0.5‑20%有机助剂,0.1‑5%螯合剂,余量为高纯水。本发明通过特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂与无机强碱混配,可以快速并有效去除蒸镀工艺中掩膜版及蒸镀设备坩埚上附着的LiF电极材料,大大提高了锂盐的溶解度,解决了市面上产品存在的沉淀问题,且易清洗无残留。
搜索关键词: 一种 用于 oled 掩膜版 坩埚 表面 lif 材料 清洗 组合
【主权项】:
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