[发明专利]光刻机及其掩膜安装板的调平结构和调平方法在审

专利信息
申请号: 202110762209.1 申请日: 2021-07-06
公开(公告)号: CN113448194A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 霍锦充 申请(专利权)人: 东莞王氏港建机械有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 倪建娣
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及光刻机技术领域,它涉及一种光刻机及其掩膜安装板的调平结构和调平方法,其中,掩膜安装板用于安装掩膜板,掩膜板周向上分布有四个基准区域A、B、C和D,掩膜安装板周向上分布有三个调节区域M1、M2和M3,调节区域M2与基准区域D对应,调节区域M3与基准区域C对应;上述的调平方法包括以下步骤:分别测量四个基准区域A、B、C和D各自与晶圆支撑板之间的距离LA、LB、LC和LD;以LA、LB、LC和LD中的最大值或最小值作为基准距离,对三个调节区域M1、M2和M3的位置分别进行调节,使LA、LB、LC和LD与基准距离一致。根据本发明的方案,其可以保证掩模板与晶圆支撑板上的晶圆平行。
搜索关键词: 光刻 及其 安装 结构 平方
【主权项】:
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