[发明专利]一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110745907.0 申请日: 2021-07-01
公开(公告)号: CN113652616B 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: 陈文波;焦健;唐定兵 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第九研究所
主分类号: C22C45/02 分类号: C22C45/02;C23C4/134;C23C4/06;C23C4/02;C21D1/26;C21D6/00;C21D9/52;B22D11/06;B22F9/04
代理公司: 成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51304 代理人: 罗江
地址: 621000 四川省*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法,属于涂层制备技术领域,所述软磁非晶涂层由Fe、Co、N i、Ho、Si、B、C、Cr等8种元素组成,制备步骤包括:配料,按照涂层的各组分重量百分比配制原料;甩带,利用真空甩带机将上述原料制作成薄带;热处理,将薄带在真空炉中进行退火处理;机械粉碎后造粒,将薄带研磨成粉末并进行造粒处理;将基体材料依次进行去油、喷砂、清洗及干燥处理;制备涂层,采用热喷涂法将步粉末沉积在基体表面,即得涂层,所获涂层具有非晶态结构,该非晶结构良好的保留了材料在高温时的无序状态,因此涂层具有高的饱和磁化强度和电阻率。
搜索关键词: 一种 性能 软磁非晶 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第九研究所,未经中国电子科技集团公司第九研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110745907.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top