[发明专利]一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法

说明书

本发明公开了一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法，属于涂层制备技术领域，所述软磁非晶涂层由Fe、Co、N i、Ho、Si、B、C、Cr等8种元素组成，制备步骤包括：配料，按照涂层的各组分重量百分比配制原料；甩带，利用真空甩带机将上述原料制作成薄带；热处理，将薄带在真空炉中进行退火处理；机械粉碎后造粒，将薄带研磨成粉末并进行造粒处理；将基体材料依次进行去油、喷砂、清洗及干燥处理；制备涂层，采用热喷涂法将步粉末沉积在基体表面，即得涂层，所获涂层具有非晶态结构，该非晶结构良好的保留了材料在高温时的无序状态，因此涂层具有高的饱和磁化强度和电阻率。

技术领域

本发明涉及涂层制备技术领域，具体涉及一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法。

背景技术

软磁材料是一种重要的磁功能材料。该类材料具有高饱和磁化强度、低饱和场、低矫顽力等特点，目前，常用的软磁材料包括金属晶体软磁材料、铁氧体软磁材料、非晶软磁材料等。其中金属晶体软磁材料综合磁性能良好，但是由于其电阻率较低，导致其在使用过程中损耗较高而在高频领域应用有限，铁氧体材料则具有较高的电阻率，但是和金属晶体软磁材料相比，其饱和磁化强度有限。非晶软磁材料则兼有金属晶体软磁材料和铁氧体软磁材料的优点，但是目前非晶软磁材料的综合磁性能仍有待提高。又由于目前，随着器件小型化的而不断发展，片式化磁性材料的制备越来越重要，如果获得高性能的软磁非晶涂层以满足目前器件小型化的需求，是非晶软磁材料制备领域的重点之一。

发明内容

为解决现有技术中存在的问题，本发明提供了一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法，解决了上述背景技术中提到的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高性能软磁非晶涂层，所述涂层的组分重量百分比为：Fe 44％～45％，Co 5.5％～5.7％，Ni 5.5％～5.7％，Ho 18.1％～18.9％，Si 4.2％～5.2％，B 17.5％～18.5％，C 1.6％～2.1％，Cr 1％～1.5％；所述涂层有非晶态结构，饱和磁化强度≥90emu/cm²，电阻率≥200μΩ/cm。

优选的，所述涂层的组分重量百分比为：Fe 44.5％～45％，Co 5.6％～5.65％，Ni5.55％～5.6％，Ho 18.7％～18.9％，Si 4.4％～4.5％，B 17.7％～18.0％，C 1.6％～1.7％，Cr 1％～1.5％。

一种高性能软磁非晶涂层的制备方法，包括如下步骤：

S1、配料，按照涂层的各组分重量百分比配制原料；

S2、甩带，利用真空甩带机将步骤S1中原料制作成薄带；

S3、热处理，将步骤S2中得到的薄带在真空炉中进行退火处理；

S4、机械粉碎后造粒，将经步骤S3处理后的薄带研磨成粉末并进行造粒处理；

S5、将基体材料依次进行去油、喷砂、清洗及干燥处理；

S6、制备涂层，采用热喷涂法将步骤S4获得的粉末沉积在经步骤S5处理的基体表面，即得涂层。

优选的，所述步骤S2中薄带的厚度为5μm～20μm。

优选的，所述步骤S3中退火处理的温度为700～900℃，保温时间为1.5～2小时。

优选的，所述步骤S4中的研磨粉末方法是气流磨或球磨法；所述的造粒处理是球磨法或喷雾干燥法。

优选的，所述步骤S5中的基体材料选自不锈钢、铝合金、坡莫合金中的一种。

优选的，所述的步骤S5中的喷砂处理，喷砂颗粒成分是氧化铝或石英砂，颗粒粒径为60～200目，喷砂压力为0.1MPa～0.8MPa。