[发明专利]一种高性能软磁非晶涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种高性能软磁非晶涂层，其特征在于，所述涂层的组分重量百分比为：Fe 44%～45%，Co 5.5%～5.7%，Ni 5.5%～5.7%，Ho 18.1%～18.9%，Si 4.2%～5.2%，B 17.5%～18.5%，C 1.6%～2.1%，Cr 1%～1.5%；所述涂层有非晶态结构，饱和磁化强度≥90emu/cm²，电阻率≥200μΩ/cm。

2.根据权利要求1所述的高性能软磁非晶涂层，其特征在于：所述涂层的组分重量百分比为：Fe 44.5%～45%，Co 5.6%～5.65%，Ni 5.55%～5.6%，Ho 18.7%～18.9%，Si 4.4%～4.5%，B 17.7%～18.0%，C 1.6%～1.7%，Cr 1%～1.5%。

3.根据权利要求1或2所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1、配料，按照涂层的各组分重量百分比配制原料；

S2、甩带，利用真空甩带机将步骤S1中原料制作成薄带；

S3、热处理，将步骤S2中得到的薄带在真空炉中进行退火处理；

S4、机械粉碎后造粒，将经步骤S3处理后的薄带研磨成粉末并进行造粒处理；

S5、将基体材料依次进行去油、喷砂、清洗及干燥处理；

S6、制备涂层，采用热喷涂法将步骤S4获得的粉末沉积在经步骤S5处理的基体表面，即得涂层；

所述步骤S3中退火处理的温度为700～900℃，保温时间为1.5～2小时。

4.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S2中薄带的厚度为5μm～20μm。

5.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S4中的研磨粉末方法是气流磨或球磨法；所述的造粒处理是球磨法或喷雾干燥法。

6.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S5中的基体材料选自不锈钢、铝合金、坡莫合金中的一种。

7.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述的步骤S5中的喷砂处理，喷砂颗粒成分是氧化铝或石英砂，颗粒粒径为60～200目，喷砂压力为0.1MPa～0.8MPa。

8.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤S5中的干燥是在真空或惰性气氛环境下进行干燥处理，所述干燥的温度＜100℃，所述惰性气氛为氮气或氩气。

9.根据权利要求3所述的高性能软磁非晶涂层的制备方法，其特征在于：所述的步骤S6中的热喷涂法为等离子喷涂；所述等离子喷涂喷枪与基体的距离为120～150mm，喷枪的移动速度为200～500 mm/min，送粉速率,50～150g/min，送粉气流为10～15L/min，电流范围为400～500A；主气成分为氩气或氮气，流量范围为60～80L/min；次气成分为氢气，流量范围为12～15L/min。