[发明专利]一种Ni柱子辅助PMMA微透镜阵列及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110735232.1 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN113608285B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 梁小筱;伊福廷;刘静;王波;张天冲;颜铭铭;徐源泽 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00
代理公司: 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 代理人: 司立彬
地址: 100049 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种Ni柱子辅助PMMA微透镜阵列及其制备方法。本方法为:1)在镀铬金的硅片上电镀Ni柱子阵列;2)在电镀有Ni柱子阵列的所述硅片上旋涂一层液态PMMA后进行烘干处理;3)运用套刻技术,将X射线掩膜版与所述硅片上的Ni柱子对准,然后进行曝光、显影后得到具有PMMA柱子阵列的样品,其中所述PMMA柱子阵列中每一PMMA柱子内部包含一Ni柱子;4)将步骤3)所得样品放入烘箱中加热,使得所述PMMA柱子阵列中的各PMMA柱子热熔为微透镜,得到微透镜阵列。本发明通过在PMMA柱子中加入Ni柱子,达到的增加微透镜接触角的效果,进而能够制备接触角较大的微透镜阵列。
搜索关键词: 一种 ni 柱子 辅助 pmma 透镜 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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