[发明专利]一种共聚物、底层胶组合物、双层体系及其在双层剥离工艺中的应用有效
| 申请号： | 202110725188.6 | 申请日： | 2021-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN113234194B | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 李杰;李冰;李海波;姚宇晨;陈昕;王文芳;董栋;张宁 | 申请（专利权）人： | 北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C08F222/40 | 分类号： | C08F222/40;C08F220/14;C08F220/20;C08F8/12;C09J135/00;G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 王丽莎 |
| 地址： | 101312 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供一种共聚物、底层胶组合物、双层体系及其在双层剥离工艺中的应用。属于半导体技术领域。共聚物由N取代马来酰亚胺单体、溶解速率控制单体、丙烯酸酯疏水性单体和丙烯酸羟乙酯亲水性单体聚合得到。本申请的共聚物不溶解于传统光刻胶的溶剂，可以溶解于碱性溶液中，不溶于水，且具有较高的玻璃化转变温度，并具有较好的化学稳定性和抗刻蚀能力，能够作为双层剥离工艺的底层树脂材料。双层体系包括顶层光刻胶和共聚物形成的底层胶。双层体系能够用于双层剥离工艺，且只需要单次显影和单次显影就可以得到目标光刻图案，大大提高光刻效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 共聚物 底层 组合 双层 体系 及其 剥离 工艺 中的 应用 | ||
【主权项】：
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