[发明专利]功率MOSFET器件安全工作区的双栅拓宽方法及电路在审

专利信息
申请号: 202110720060.0 申请日: 2021-06-28
公开(公告)号: CN113380895A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 刘斯扬;童鑫;李春晓;尹储;蒋彦博;孙伟锋;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H03K17/081;H03K17/687
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 冯慧
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种功率MOSFET器件安全工作区的双栅拓宽方法及电路,包括在功率MOSFET器件上增设第一、第二栅总线,将功率MOSFET的一部分元胞的栅极连接于第一栅总线,将功率MOSFET的另一部分元胞的栅极连接于第二栅总线,功率MOSFET的漏极和源极分别连接所有元胞结构的漏和源。外部输入信号控制第二栅总线连接的元胞的开启与关闭,由微控制器比较MOSFET的漏极和源极电压,控制连接于第一栅总线的元胞的开启与关闭:当输入信号为高电平且当MOSFET的漏源电压高于预定电压时,开启第二栅总线连接的元胞并关闭第一栅总线连接的元胞;当输入信号为高电平且当MOSFET的漏源电压小于预设电压时,开启全部元胞。
搜索关键词: 功率 mosfet 器件 安全 工作 拓宽 方法 电路
【主权项】:
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