[发明专利]一种用于PCB孔铜晶粒分析的样品的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110705256.2 申请日: 2021-06-24
公开(公告)号: CN113447339A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 王君兆;黄伟 申请(专利权)人: 深圳市美信咨询有限公司
主分类号: G01N1/32 分类号: G01N1/32
代理公司: 南京禾易知识产权代理有限公司 32320 代理人: 张松云
地址: 518108 广东省深圳市宝安区石*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于PCB孔铜晶粒分析的样品的制备方法,该方法包括以下步骤:样品镶嵌:将待分析的样品用环氧树脂包裹,采用室温固化工艺进行固化8~12小时;机械研磨抛光:采用砂纸研磨至需要观测的区域,通过抛光液进行抛光作业;离子研磨:将抛光后的样品采用氩离子束对样品表面持续轰击深度为1~3微米,去除机械研磨抛光带来的塑性变形、应变孪晶的影响;成像观测:利用聚焦离子束对离子抛光后的样品截面进行离子成像观测,本发明引入离子抛光技术,不引入明显的应力,抛光过程中不会造成孔铜延展变形,保持了孔铜组织的原始状态;引入离子成像技术,利用晶粒间的取向差异来识别孪晶、晶粒、晶界缺陷,对离子抛光后的样品直接观测。
搜索关键词: 一种 用于 pcb 晶粒 分析 样品 制备 方法
【主权项】:
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