[发明专利]一种光刻金属剥离工艺显影工序在审

专利信息
申请号: 202110695319.0 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN113376967A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 沈小娟 申请(专利权)人: 无锡职业技术学院
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 王鹏翔
地址: 214123 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种光刻金属剥离工艺显影工序,包括如下步骤:1)将显影液喷嘴从圆片边缘移到圆片中心上方,移动时不喷涂;2)旋转圆片并喷显影液进行显影反应;3)继续喷显影液,并降低圆片转速,在圆片表面覆盖显影液后,停止喷涂,显影液喷嘴复位,并对显影副产物进行轻微扰动;4)将显影液喷嘴移到圆片中心上方,先喷显影液,然后提高圆片转速,并喷显影液;5)重复步骤3),显影反应结束;6)将去离子水喷嘴移到圆片中心上方,先喷水,然后提高圆片转速,并喷水清洗后停止喷水,去离子水喷嘴复位,在清洗最后阶段,降低圆片转速;7)提高圆片转速进行甩干。本发明具有减少高台阶处光刻胶屋檐下的光刻胶残留的优点。
搜索关键词: 一种 光刻 金属 剥离 工艺 显影 工序
【主权项】:
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