[发明专利]电路图案形成片、电路图案制造装置、电路图案制造方法及电路图案制造程序在审
| 申请号： | 202110690656.0 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN113784527A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 大嶋英司;日下部富男 | 申请（专利权）人： | 康达智株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/02 | 分类号： | H05K3/02;G03F7/20;H05K3/00 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 魏彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 通过在不使用其上形成有电路图案的光掩模的情况下使板上的电路图案曝光来快速产生或改变电路图案。提供了一种电路图案制造装置，该电路图案制造装置包括：形成单元，该形成单元通过用光束照射包括绝缘片基材层和混合物层的电路图案形成片来形成电路图案，其中混合物层由包含导电材料和光固化树脂的混合物制成。该形成单元包括壳体、激光二极管、棱镜反射镜、倾斜反射镜、底反射镜和驱动反射镜，作为光学引擎。 | ||
| 搜索关键词： | 电路 图案 形成 制造 装置 方法 程序 | ||
【主权项】：
暂无信息
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