[发明专利]电路图案形成片、电路图案制造装置、电路图案制造方法及电路图案制造程序在审
申请号: | 202110690656.0 | 申请日: | 2016-06-01 |
公开(公告)号: | CN113784527A | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 大嶋英司;日下部富男 | 申请(专利权)人: | 康达智株式会社 |
主分类号: | H05K3/02 | 分类号: | H05K3/02;G03F7/20;H05K3/00 |
代理公司: | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人: | 魏彦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电路 图案 形成 制造 装置 方法 程序 | ||
通过在不使用其上形成有电路图案的光掩模的情况下使板上的电路图案曝光来快速产生或改变电路图案。提供了一种电路图案制造装置,该电路图案制造装置包括:形成单元,该形成单元通过用光束照射包括绝缘片基材层和混合物层的电路图案形成片来形成电路图案,其中混合物层由包含导电材料和光固化树脂的混合物制成。该形成单元包括壳体、激光二极管、棱镜反射镜、倾斜反射镜、底反射镜和驱动反射镜,作为光学引擎。
本申请是国际申请日为2016年6月1日,申请号为2016800245947,名称为“电路图案形成片、电路图案制造装置、电路图案制造方法及电路图案制造程序”的分案申请。
相关申请的交叉引用
本申请基于并要求于2015年6月9日提交的日本专利申请第2015-116660号的优先权的权益,其公开内容通过引用整体并入本文。
技术领域
本发明涉及电路图案形成片、电路图案制造装置、电路图案制造方法和电路图案制造程序。
背景技术
在上述技术领域中,专利文献1公开了一种用光照射其上形成有电路图案的光掩模并使板上的电路图案曝光的技术。
参考文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开第2012-194253号
发明内容
技术问题
在上述文献中描述的技术中,由于利用其上形成有电路图案的光掩模使板上的电路图案曝光,所以不可能快速地产生或改变电路图案。
本发明使得能够提供一种解决上述问题的技术。
问题的解决方案
本发明的一个方面提供一种电路图案形成片,该电路图案形成片包括:
绝缘片基材层;以及
由包含导电材料和光固化树脂的混合物制成的混合物层。
本发明的另一方面提供一种电路图案制造装置,该电路图案制造装置包括:
形成单元,该形成单元通过用光束照射涂覆有混合物的板来形成图案,其中该混合物包含导电材料和光固化树脂。
本发明的又一方面提供一种电路图案制造方法,所述电路图案制造方法包括:
通过用光束照射涂覆有混合物的板来形成图案,其中该混合物包含导电材料和光固化树脂。
本发明的又一方面提供一种用于使计算机执行方法的电路图案制造程序,所述电路图案制造程序包括:
通过用光束照射涂覆有的混合物的板来形成图案,其中该混合物包含导电材料和光固化树脂。
发明的有益效果
根据本发明,由于在不使用其上形成有电路图案的光掩模的情况下使板上的电路图案曝光,因此可以快速地产生或改变电路图案。
附图说明
图1A是示出根据本发明的第一示例性实施方式的电路图案制造装置的布置的概要的图;
图1B是示出根据本发明的第一示例性实施方式的电路图案制造装置的电路图案形成过程的概要的图;
图2A是示出包括在根据本发明的第一示例性实施方式的电路图案制造装置中的光学引擎的布置的图;
图2B是示出包括在根据本发明的第一示例性实施方式的电路图案制造装置中的光学引擎的布置的图;
图2C是示出包括在根据本发明的第一示例性实施方式的电路图案制造装置中的光学引擎中的光路的图;
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