[发明专利]玻璃光罩及其制造方法在审
申请号: | 202110677329.1 | 申请日: | 2021-06-18 |
公开(公告)号: | CN113448162A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 王明波 | 申请(专利权)人: | 广州仕元光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/80 | 分类号: | G03F1/80;G03F1/72;G03F1/82;G03F9/00 |
代理公司: | 广州德科知识产权代理有限公司 44381 | 代理人: | 林玉旋;万振雄 |
地址: | 510419 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种玻璃光罩及其制造方法,该玻璃光罩的制造方法可包括:提供匀胶铬板,匀胶铬板包括依次层叠设置的玻璃基板、铬层、氧化铬层以及光刻胶层,玻璃基板具有第一区域和与第一区域连接的第二区域;去除覆盖在第一区域上的光刻胶层;蚀刻去除覆盖在第一区域上的氧化铬层与铬层;去除覆盖在第二区域上的光刻胶层;蚀刻去除覆盖在第二区域上的氧化铬层,得到玻璃光罩。从而铬层形成玻璃光罩的遮光区域的表面,以使玻璃光罩的遮光区域的表面对光的反射性高。本发明提供的玻璃光罩的制造方法通过对匀胶铬板进行两次蚀刻,实现了使用具有低反射性的氧化铬膜层的匀胶铬板,生产遮光区域的表面具有高反射性的玻璃光罩,生产成本低。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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