[发明专利]玻璃光罩及其制造方法在审
申请号: | 202110677329.1 | 申请日: | 2021-06-18 |
公开(公告)号: | CN113448162A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 王明波 | 申请(专利权)人: | 广州仕元光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/80 | 分类号: | G03F1/80;G03F1/72;G03F1/82;G03F9/00 |
代理公司: | 广州德科知识产权代理有限公司 44381 | 代理人: | 林玉旋;万振雄 |
地址: | 510419 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一种玻璃光罩的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供匀胶铬板,所述匀胶铬板包括依次层叠设置的玻璃基板、铬层、氧化铬层以及光刻胶层,所述玻璃基板具有第一区域和与所述第一区域连接的第二区域;
去除覆盖在所述第一区域上的所述光刻胶层,以暴露覆盖在所述第一区域上的所述氧化铬层;
蚀刻去除覆盖在所述第一区域上的所述氧化铬层与所述铬层,以暴露所述第一区域;
去除覆盖在所述第二区域上的所述光刻胶层,以暴露覆盖在所述第二区域上的所述氧化铬层;
蚀刻去除覆盖在所述第二区域上的所述氧化铬层,以暴露覆盖在所述第二区域上的所述铬层,得到玻璃光罩。
2.根据权利要求1所述的玻璃光罩的制造方法,其特征在于,所述去除覆盖在所述第一区域上的所述光刻胶层,以暴露覆盖在所述第一区域上的所述氧化铬层,包括:
提供光刻机,通过所述光刻机照射覆盖在所述第一区域或所述第二区域上的所述光刻胶层;
显影去除覆盖在所述第一区域上的所述光刻胶层,以暴露覆盖在所述第一区域上的所述氧化铬层。
3.根据权利要求1所述的玻璃光罩的制造方法,其特征在于,所述蚀刻去除覆盖在所述第一区域上的所述氧化铬层与所述铬层,以暴露所述第一区域,包括:
提供蚀刻液,使用所述蚀刻液对所述匀胶铬板进行第一次浸泡,以溶解去除覆盖在所述第一区域上的所述氧化铬层与所述铬层,以暴露所述第一区域;
将所述匀胶铬板从所述蚀刻液中取出,清洗以去除附着在所述匀胶铬板的表面的所述蚀刻液;
其中,所述第一次浸泡的时长为t1,43s≤t1≤53s。
4.根据权利要求1所述的玻璃光罩的制造方法,其特征在于,在所述去除覆盖在所述第二区域上的所述光刻胶层,以暴露覆盖在所述第二区域上的所述氧化铬层之后,所述玻璃光罩的制造方法还包括:
清洗以去除附着在所述匀胶铬板的表面的杂质以及残留的所述光刻胶层。
5.根据权利要求1所述的玻璃光罩的制造方法,其特征在于,所述蚀刻去除覆盖在所述第二区域上的所述氧化铬层,以暴露覆盖在所述第二区域上的所述铬层,得到所述玻璃光罩,包括:
提供蚀刻液,使用所述蚀刻液对所述匀胶铬板进行第二次浸泡,以溶解去除覆盖在所述第二区域上的所述氧化铬层,以暴露覆盖在所述第二区域上的所述铬层;
将所述匀胶铬板从所述蚀刻液中取出,清洗以去除附着在所述匀胶铬板的表面的所述蚀刻液,得到所述玻璃光罩。
6.根据权利要求5所述的玻璃光罩的制造方法,其特征在于,所述第二次浸泡的时长为t2,10s≤t2≤13s。
7.根据权利要求1-6任一项所述的玻璃光罩的制造方法,其特征在于,在所述蚀刻去除覆盖在所述第二区域上的所述氧化铬层,以暴露覆盖在所述第二区域上的所述铬层,得到所述玻璃光罩之后,所述玻璃光罩的制造方法还包括:
测量所述铬层,以得到所述铬层与所述第二区域的重合度;
判断所述铬层与所述第二区域的所述重合度是否达到预设要求,若是,则对所述玻璃光罩的表面进行缺陷检查。
8.根据权利要求7所述的玻璃光罩的制造方法,其特征在于,所述对所述玻璃光罩的表面进行缺陷检查之后,所述玻璃光罩的制造方法还包括:
判断所述玻璃光罩的表面是否存在缺陷,若是,则根据所述缺陷确定是否对所述玻璃光罩的表面进行修补。
9.根据权利要求8所述的玻璃光罩的制造方法,其特征在于,在判断所述玻璃光罩的表面是否存在所述缺陷之后,所述玻璃基板的制造方法还包括:
清洗所述玻璃光罩;
对所述玻璃光罩进行包装。
10.一种玻璃光罩,其特征在于,包括:
玻璃基板,所述玻璃基板具有第一区域和连接于所述第一区域的第二区域;以及,
铬层,所述铬层覆盖于所述第二区域上。
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