[发明专利]IPS型TFT-LCD阵列基板的制作方法及IPS型TFT-LCD阵列基板有效
| 申请号： | 202110673802.9 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113433742B | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 苑春歌 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;H01L21/77;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 官建红 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本申请公开了一种IPS型TFT‑LCD阵列基板的制作方法，包括如下步骤：提供TFT基板，其包括衬底、形成在衬底上的TFT阵列、及形成在TFT阵列上平坦层；在平坦层上形成公共电极；在所述公共电极及所述平坦层上形成绝缘膜；将形成有公共电极及绝缘膜的TFT基板置于反应室中，向反应室中通入成膜气体SiH |
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| 搜索关键词： | ips tft lcd 阵列 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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