[发明专利]量测设备的调节或基于已测量目标的特性而由量测设备进行的测量在审
| 申请号： | 202110658219.0 | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN113376973A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·约翰·索卡;A·J·登鲍埃夫;N·潘迪 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/27;G01N21/88;G01N21/956 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文披露了一种调节量测设备的方法，所述方法包括：将量测设备的光瞳平面中的强度分布在空间上划分成多个像素；通过使用计算机调节所述多个像素的强度，减少目标中的结构不对称性对由所述量测设备对所述目标进行的测量的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 调节 基于 测量 目标 特性 进行 | ||
【主权项】：
暂无信息
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