[发明专利]量测设备的调节或基于已测量目标的特性而由量测设备进行的测量

权利要求书

1.一种具有指令的非瞬态计算机可读介质，所述指令在通过计算机系统执行时被配置成引起所述计算机系统执行调节量测设备的方法，所述方法包括：

基于所述目标的特性，将用于测量目标的量测设备的参数或由所述量测设备对目标的测量的参数设置或调节为一值，所述特性包括所述目标内的结构不对称性或表示衬底上的所述目标的位置的值。

2.根据权利要求1所述的介质，其中所述测量是选自以下中的一个或多个：重叠的测量、聚焦的测量和/或像差的测量。

3.根据权利要求1所述的介质，其中所述参数是选自如下中的一个或多个：所述量测设备的照射光瞳处的强度、所述量测设备的照射光瞳处的偏振、所述量测设备的照射光瞳处的波长、所述量测设备的照射光瞳处的带宽、所述量测设备的检测光瞳处的强度、所述量测设备的检测光瞳处的偏振、所述量测设备的检测光瞳处的波长和/或所述量测设备的检测光瞳处的带宽。

4.根据权利要求1所述的介质，其中所述参数是所述量测设备的投影光学元件的特性和/或所述量测设备的辐射照射的特性。

5.根据权利要求1所述的介质，其中所述调节或设置所述参数影响所述目标的所述测量的品质。

6.根据权利要求5所述的介质，其中所述品质是指所述目标的可检测性、所述测量的精确度和/或所述测量的稳健性。

7.根据权利要求1所述的介质，其中所述调节或设置所述参数包括：计算表示所述品质并且是所述参数的函数的成本函数。

8.根据权利要求7所述的介质，其中所述成本函数表示所述目标的图像的对比度。

9.根据权利要求7所述的介质，其中所述调节或设置所述参数还包括：寻找局部地或全局地最小化或最大化所述成本函数的所述参数的值。

10.根据权利要求7所述的介质，其中所述成本函数受约束。

11.根据权利要求7所述的介质，其中所述成本函数是所述目标的所述特性的函数。

12.根据权利要求1所述的介质，还包括调节所述目标的所述特性。

13.根据权利要求1所述的介质，其中所述目标的所述特性包括表示衬底上的所述目标的位置的值。

14.根据权利要求1所述的介质，其中所述目标的所述特性包括所述目标内的结构不对称性。

15.一种调节量测设备的方法，所述方法包括：

基于所述目标的特性，将用于测量目标的量测设备的参数或由所述量测设备对目标的测量的参数设置或调节为一值，所述特性包括所述目标内的结构不对称性或表示衬底上的所述目标的位置的值。