[发明专利]一种激光脉冲沉积系统及加工方法有效
| 申请号： | 202110653625.8 | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN113463045B | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 秦应雄;李晓 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 徐美琳 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光脉冲沉积系统及加工方法，属于激光技术领域。系统包括依次连接的脉冲光源、扫描光路模块和真空沉积模块，脉冲光源发出的光束入射至扫描光路模块，经过扫描光路模块聚焦后斜入射至真空沉积模块，扫描光路模块用于使真空沉积模块内靶材表面任意位置的光斑保持均匀大小，聚焦光斑在靶材表面扫描过程中，衬底与靶材距离保持不变，实现均匀光斑脉冲沉积。本发明提供的激光脉冲沉积系统及加工方法通过控制扫描光路模块，对靶材表面不同区域进行脉冲溅射，实现对大面积、高均匀性薄膜的高效加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 脉冲 沉积 系统 加工 方法 | ||
【主权项】：
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