[发明专利]一种等离子腔体清洗组件、等离子体处理系统及清洗方法在审
| 申请号： | 202110630132.2 | 申请日： | 2021-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN115513021A | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 李雪冬;刘小波;刘海洋;朱小庆;许开东;陈璐 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;B08B7/00;B08B9/08 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 石艳红 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于刻蚀工艺技术领域，具体涉及一种等离子腔体清洗组件、等离子体处理系统及清洗方法，其中：等离子腔体清洗组件包括第一金属电极组、第二金属电极组以及绝缘介质层，第一金属电极组与第二金属电极组相对设置，绝缘介质层设置于第一金属电极组与第二金属电极组之间；等离子腔体清洗组件用于清洗经过刻蚀或镀膜工艺后在腔室内衬内壁上堆积的沉积物。具有等离子腔体清洗组件的等离子体处理系统，向等离子腔体清洗组件引入射频功率，从而使得等离子气体直接撞击在腔室侧壁进行清洗；一种等离子体处理系统的清洗方法，有效去除腔室侧壁上的沉积，从而减少设备的维护时间和成本，提高设备的工艺稳定性和重复性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 清洗 组件 等离子体 处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
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