[发明专利]一种等离子腔体清洗组件、等离子体处理系统及清洗方法

权利要求书

1.一种等离子腔体的清洗组件，其特征在于：所述等离子腔体的内侧壁上设有所述清洗组件（9），所述清洗组件（9）包括：第一金属电极组（10）、第二金属电极组（13）以及绝缘介质层（8），其中：

所述第一金属电极组（10）包括若干第一金属电极片（11）和第一电极连接部（12），所述第二金属电极组（13）包括若干第二金属电极片（14）和第二电极连接部（15）；

以所述等离子腔体的轴向方向为旋转对称轴，若干所述第一金属电极片（11）和若干所述第二金属电极片（14）交叉周向排列，且若干所述第一金属电极片（11）和若干所述第二金属电极片（14）共同围设成与所述等离子腔体周壁随形的结构；

若干所述第一金属电极片（11）的顶端均与所述第一电极连接部（12）连接，若干所述第一金属电极片（11）的底端均为自由端；

若干所述第二金属电极片（14）的底端均与所述第二电极连接部（15）连接，若干所述第二金属电极片（14）的顶端均为自由端；

所述第一金属电极组（10）与所述第二金属电极组（13）之间夹设有所述绝缘介质层（8）。

2.根据权利要求1所述的一种等离子腔体的清洗组件，其特征在于：每相邻的所述第一金属电极片（11）与所述第二金属电极片（14）之间的间距均一致。

3.根据权利要求2所述的一种等离子腔体的清洗组件，其特征在于：若干所述第一金属电极片（11）自由端与所述第二电极连接部（15）之间的间距均一致。

4.根据权利要求3所述的一种等离子腔体的清洗组件，其特征在于：若干所述第二金属电极片（14）自由端与所述第一电极连接部（12）之间的间距均一致。

5.根据权利要求4所述的一种等离子腔体的清洗组件，其特征在于：相邻两个所述第一金属电极片（11）之间的间距与相邻两个所述第二金属电极片（14）之间的间距一致；所述第一金属电极片（11）的宽度与所述第二金属电极片（14）的宽度一致；相邻两个所述第二金属电极片（14）之间的间距为h1，所述第一金属电极片（11）的宽度为h2,每个所述绝缘介质层（8）的厚度为h3，则h1=h2+2*h3。

6.一种等离子体处理系统，其特征在于，包括：

等离子腔体，所述等离子腔体包括：根据权利要求1-5中任一项所述的等离子腔体的清洗组件、反应腔室腔体（1）和腔室内衬（2），所述腔室内衬（2）配合安装在所述反应腔室腔体（1）内侧壁上，所述清洗组件（9）位于所述反应腔室腔体（1）和所述腔室内衬（2）之间；

第一射频电源（3）和第一射频匹配器（4），所述清洗组件（9）的一端通过所述第一射频匹配器（4）与所述第一射频电源（3）连接，所述清洗组件（9）的另一端接地。

7.根据权利要求6所述的一种等离子体处理系统，其特征在于：所述清洗组件（9）夹设在所述反应腔室腔体（1）与所述腔室内衬（2）之间；

或者，所述清洗组件（9）内置于所述腔室内衬（2）内部并与所述腔室内衬（2）一体加工成型。

8.根据权利要求7所述的一种等离子体处理系统，其特征在于：还包括第一切换开关（5），所述第一切换开关（5）具有两种状态：第一种状态，当需要对所述等离子腔体的内侧壁进行清洗时，所述第一切换开关（5）与所述第一射频匹配器（4）连通；第二种状态，当无需对所述等离子腔体的内侧壁进行清洗时，所述第一切换开关（5）接地。

9.根据权利要求8所述的一种等离子体处理系统，其特征在于：所述第一电极连接部（12）与所述第一射频匹配器（4）连接，所述第一电极连接部（12）与所述第一射频匹配器（4）之间设有所述第一切换开关（5），所述第二电极连接部（15）接地。