[发明专利]一种高石墨化石墨厚膜及其制备方法在审
申请号: | 202110621290.1 | 申请日: | 2021-06-03 |
公开(公告)号: | CN113184842A | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 张艺;李帅臻;郑智博;蒋星;池振国;刘四委;许家瑞 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | C01B32/205 | 分类号: | C01B32/205;C04B35/52;C04B35/622 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 贾耀淇 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种高石墨化石墨厚膜及其制备方法,属于石墨厚膜技术领域。本发明先制备纳米片层材料掺杂聚酰亚胺薄膜,再将其依次进行碳化处理和石墨化处理,得到高石墨化石墨厚膜。本发明工艺简单,制备过程中不需要喷涂,实用性强,节约能源,易于实现工业化生产,具有广阔的工业化前景。采用本发明方法制备的石墨厚膜重量轻、且具有柔性,纳米片层材料的引入有助于提高聚酰亚胺厚膜内部的石墨化程度,解决了成品易脆以及内部石墨化不完全等问题,从而提高了成品的导电和导热性能,拓宽了其应用范围。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 化石 墨厚膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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