[发明专利]外延托盘及外延托盘应用的发光二极管外延片制备方法有效
| 申请号： | 202110604189.5 | 申请日： | 2021-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN113584582B | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 从颖;姚振;董彬忠;梅劲 | 申请（专利权）人： | 华灿光电（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C30B25/16;C30B28/14;C30B29/40;H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 吕耀萍 |
| 地址： | 215600 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本公开公开了一种外延托盘及外延托盘应用的发光二极管外延片制备方法，属于外延生长技术领域。外延托盘具有圆形凹槽，在圆形凹槽的底面增加多个延伸至外延托盘的另一端的孔洞。将衬底放置在圆形凹槽内，反应腔压力大于外延托盘的孔洞内的压力，压差作用下，衬底会吸附在孔洞上，减小衬底位置出现偏离的可能。衬底被孔洞的吸附力吸附在圆形凹槽的中部，抵消离心力对衬底的影响，减小衬底的外周壁与圆形凹槽的侧壁直接接触的可能性。衬底主要是端面与圆形凹槽的底面相接触，衬底的端面接收的热量与衬底本身的温度较为均匀，因此在衬底各处生长的外延材料也较为均匀，可以提高得到的外延片的质量与均匀程度来提高发光均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 托盘 应用 发光二极管 制备 方法 | ||
【主权项】：
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