[发明专利]掩膜结构及掩膜结构制作方法有效

专利信息
申请号: 202110589571.3 申请日: 2021-05-28
公开(公告)号: CN113322430B 公开(公告)日: 2023-01-31
发明(设计)人: 付佳;刘明星;赵晶晶;王腾雨 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 代理人: 唐维虎
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请实施例提供的掩膜结构及掩膜结构制作方法,涉及显示技术领域。限定蒸镀区域的至少一个支撑件上设置靠近蒸镀区域且位于支撑件朝向掩膜版单元一面的第一减薄区,可以在磁性背板产生的磁力将掩膜结构吸附在基板上时,使位于蒸镀区域边缘位置处的网格区域褶皱可以在第一减薄区内延展,以减缓或避免在蒸镀区域边缘位置处因网格区域褶皱产生的贴合不良。在蒸镀时,显示面板的有效显示区边缘不会因贴合不良引起的阴影效应而出现有机发光材料混色,确保有效显示区边缘不会存在因有机发光材料混色引起的显示色差,提高使用掩膜结构制作得到的显示面板的显示质量。
搜索关键词: 膜结构 制作方法
【主权项】:
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