[发明专利]一种ITO旋转靶材表面制备工艺在审
| 申请号： | 202110577680.3 | 申请日： | 2021-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN113275951A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 石煜;王志强;曾墩风;盛明亮;陶成 | 申请（专利权）人： | 芜湖映日科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市中国(安徽)自*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种ITO旋转靶材表面制备工艺，首先对ITO旋转靶胚进行粗磨、内圆磨和端磨，再通过自动循环水抛光设备抛光，控制芯轴转速50‑500转/min，水磨砂带转速500‑5000转/min，左右移动速度1‑20mm/s，控制表面冷却水流量1‑50L/min，抛光遍数1‑50，再清洗烘干，制得的ITO旋转靶材光洁度Ra0.1‑0.6um，抛光尺寸精度可控制0.1mm内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ito 旋转 表面 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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