[发明专利]一种ITO旋转靶材表面制备工艺

说明书

本发明提供一种ITO旋转靶材表面制备工艺，首先对ITO旋转靶胚进行粗磨、内圆磨和端磨，再通过自动循环水抛光设备抛光，控制芯轴转速50‑500转/min，水磨砂带转速500‑5000转/min，左右移动速度1‑20mm/s，控制表面冷却水流量1‑50L/min，抛光遍数1‑50，再清洗烘干，制得的ITO旋转靶材光洁度Ra0.1‑0.6um，抛光尺寸精度可控制0.1mm内。

技术领域

本发明涉及ITO旋转靶材领域，尤其涉及一种ITO旋转靶材表面制备工艺。

背景技术

ITO旋转靶材主要用于ITO膜透明导电玻璃的制作，后者是制造平面液晶显示的主要材料，在电子工业、信息产业方面有着广阔而重要的应用。ITO旋转靶材需要进行对其表面加工，传统的工艺为：ITO旋转靶胚烧结出来后采用外圆磨加工，受加工工艺的限制，需粗磨后，在精磨，加工完表面光洁度不足，存在拉伤、刀痕等不良，需要靠人力打磨，同时R角控制直角容易崩边，打磨后序工艺绑定，靶材绑定后表面存在污染，残胶等不良，又需要靠人力打磨，耗时耗力。

现有技术专利CN101700616A公开了一种溅射靶材的表面处理方法，提供铝或铝合金的溅射靶材溅射靶材为，所述溅射靶材的表面进行车床加工，并在车屑过程中采用酒精冷却；采用抛光件对车屑后的溅射靶材进行抛光，可以及时冷却车床加工过程中产生的热量，使得车床加工时较少或不产生积屑，避免了积屑对溅射靶材表面造成损伤。但是该专利缺少详细的抛光的技术特征，而抛光是ITO旋转靶材表面处理的重要技术特征，如何对抛光技术进行使用来达到对ITO旋转靶材表面处理的光洁度及R角的要求。因此解决这一问题就显得十分必要了。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种ITO旋转靶材表面制备工艺，首先对ITO旋转靶胚进行粗磨、内圆磨和端磨，再通过自动循环水抛光设备抛光，控制芯轴转速50-500转/min，水磨砂带转速500-5000转/min，左右移动速度1-20mm/s，控制表面冷却水流量1-50L/min，抛光遍数1-50，再清洗烘干，制得的 ITO旋转靶材光洁度Ra0.1-0.6um，抛光尺寸精度可控制0.1mm内，解决了背景技术中出现的问题。

本发明的目的是提供一种ITO旋转靶材表面制备工艺，首先对ITO旋转靶胚进行粗磨，之后进行内圆磨和端磨；再通过自动循环水抛光设备进行水抛光，自动循环水抛光设备采用60-500目金刚石水磨砂带，控制芯轴转速50-500转/min，水磨砂带转速500-5000转/min，左右移动速度1-20mm/s，控制表面冷却水流量1-50L/min；水抛结束后进行高压清洗烘干得到制备好的ITO旋转靶材。

进一步改进在于：所述对ITO旋转靶胚进行粗磨采用治具装配好，再装到外圆磨设备上进行粗磨，控制进刀量0.01-0.5mm，转速：1-5000转/min。

进一步改进在于：所述内圆磨和端磨控制进刀量0.01-0.5mm，转速：1-5000转/min。

进一步改进在于：清洗结束对靶材表面残留水分进行吹干后采用10-100℃进行烘烤；

进一步改进在于：靶材烘干结束后吊装下靶检测，光洁度需达到Ra0.1-0.6um，抛光尺寸精度达到0.1mm内。

进一步改进在于：所述自动循环水抛光设备的抛光遍数为1-50遍。

进一步改进在于：所述水抛光前将粗磨、内圆磨和端磨过的ITO旋转靶胚绑定于钛管外表面，绑定好的靶材再进行水抛光。