[发明专利]一种ITO旋转靶材表面制备工艺

权利要求书

1.一种ITO旋转靶材表面制备工艺，其特征在于：

首先对ITO旋转靶胚进行粗磨，之后进行内圆磨和端磨；再通过自动循环水抛光设备进行水抛光，自动循环水抛光设备采用60-500目金刚石水磨砂带，控制芯轴转速50-500转/min，水磨砂带转速500-5000转/min，左右移动速度1-20mm/s，控制表面冷却水流量1-50L/min；水抛结束后进行高压清洗烘干得到制备好的ITO旋转靶材。

2.如权利要求1所述一种ITO旋转靶材表面制备工艺，其特征在于：所述对ITO旋转靶胚进行粗磨采用治具装配好，再装到外圆磨设备上进行粗磨，控制进刀量0.01-0.5mm，转速：1-5000转/min。

3.如权利要求1所述一种ITO旋转靶材表面制备工艺，其特征在于：所述内圆磨和端磨控制进刀量0.01-0.5mm，转速：1-5000转/min。

4.如权利要求1所述一种ITO旋转靶材表面制备工艺，其特征在于：清洗结束对靶材表面残留水分进行吹干后采用10-100℃进行烘烤。

5.如权利要求1或4所述一种ITO旋转靶材表面制备工艺，其特征在于：靶材烘干结束后吊装下靶检测，光洁度需达到Ra0.1-0.6um，抛光尺寸精度达到0.1mm内。

6.如权利要求1所述一种ITO旋转靶材表面制备工艺，其特征在于：所述自动循环水抛光设备的抛光遍数为1-50遍。

7.如权利要求1所述一种ITO旋转靶材表面制备工艺，其特征在于：所述水抛光前将粗磨、内圆磨和端磨过的ITO旋转靶胚绑定于钛管外表面，绑定好的靶材再进行水抛光。