[发明专利]一种边缘环更换装置、等离子体处理设备及使用方法在审
| 申请号： | 202110564685.2 | 申请日： | 2021-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN115394623A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 张彪 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 曹媛;完增荣 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种边缘环更换装置、等离子体处理设备及使用方法，所述边缘环更换装置，其位于等离子体刻蚀腔中，所述等离子体刻蚀腔的底部设有基座，所述边缘环围绕所述基座外侧；所述边缘环更换装置包括：可上下移动的上接地环，位于所述等离子体刻蚀腔的顶部；位于所述上接地环内的若干个电极组，每一所述电极组与所述边缘环相对设置；电路系统，用于向每一所述电极组提供直流电压，以使每一所述电极组产生静电吸力。本发明电极组可以产生静电吸力吸附边缘环以及解除静电吸力将已吸附的边缘环放置于预设位置，从而在对等离子体蚀刻设备不开腔以及在腔室内不设置多个驱动部件的情况下移出或移入边缘环，进而更换边缘环。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 边缘 更换 装置 等离子体 处理 设备 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司，未经中微半导体设备（上海）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110564685.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
