[发明专利]一种边缘环更换装置、等离子体处理设备及使用方法

权利要求书

1.一种边缘环更换装置，其位于等离子体刻蚀腔中，所述等离子体刻蚀腔的底部设有基座，所述边缘环围绕所述基座外侧；其特征在于，所述边缘环更换装置包括：

可上下移动的上接地环，位于所述等离子体刻蚀腔的顶部；

位于所述上接地环内的若干个电极组，每一所述电极组与所述边缘环相对设置；

电路系统，用于向每一所述电极组提供直流电压，以使每一所述电极组产生静电吸力。

2.如权利要求1所述的边缘环更换装置，其特征在于，

所述电路系统包括开关，用于控制所述直流电压的通断。

3.如权利要求1所述的边缘环更换装置，其特征在于，

所述等离子体刻蚀腔的侧壁上设有一传片口，所述上接地环的下表面在高位和低位两个位置之间移动，所述高位在所述传片口之上，所述低位在所述传片口之下。

4.如权利要求3所述的边缘环更换装置，其特征在于，

所述低位使所述上接地环的下表面与所述边缘环的上表面接触。

5.如权利要求2所述的边缘环更换装置，其特征在于，所述电极组的下表面靠近所述上接地环的下表面。

6.如权利要求2所述的边缘环更换装置，其特征在于，

所述电极组包括极性相反的第一电极和第二电极，且所述第一电极和所述第二电极沿周向或径向设置。

7.如权利要求6所述的边缘环更换装置，其特征在于，

所述电极组的数量为1个，所述第一电极和所述第二电极为圆环形，且同心设置。

8.如权利要求6所述的边缘环更换装置，其特征在于，

所述电极组的数量为1个，所述第一电极和所述第二电极为半环形，且沿所述上接地环的周向设置。

9.如权利要求5所述的边缘环更换装置，其特征在于，

所述电极组的表面设有绝缘层，且所述绝缘层的厚度为20μm～90μm。

10.如权利要求1所述的边缘环更换装置，其特征在于，所述直流电压为100V～10000V。

11.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括：等离子体刻蚀腔，位于等离子体刻蚀腔内的上电极，围绕所述上电极设置的可移动的上接地环，以及如权利要求1～10中任意一项所述的边缘环更换装置。

12.一种如权利要求1～10中任意一项所述的边缘环更换装置的使用方法，其特征在于，包括：

使所述电路系统导通，向所述电极组施加直流电压，产生静电吸力；

使所述上接地环向下移动，吸附所述边缘环；

使所述上接地环带动所述边缘环执行放置操作。

13.如权利要求12所述的边缘环更换装置的使用方法，其特征在于，所述放置操作包括：

所述上接地环带动所述边缘环向上运动，待机械臂移动到所述边缘环底部时解除所述静电吸力将所述边缘环放置在所述机械臂上方。

14.如权利要求12所述的边缘环更换装置的使用方法，其特征在于，所述放置操作包括：

待机械臂从所述边缘环底部移开时，所述上接地环带动所述边缘环继续向下运动后解除所述静电吸力将所述边缘环放置在所述基座的外侧。