[发明专利]一种极紫外多层膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110554979.7 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113204179A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 喻波;姚舜;邓文渊 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 魏毅宏
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 本申请提供的极紫外多层膜,包括:依次层叠设置的基底、阻挡层及表面保护层,所述阻挡层由多个周期设置的阻挡单元构成,任意一个阻挡单元包括依次设置的Si层、第一扩散阻挡层、Mo层及第二扩散阻挡层,本发明提供的极紫外多层膜,采用表面保护层,该保护层既具备良好的防氢泡产生能力;同时,采用扩散阻挡层以阻止氢离子穿透表面保护层,破坏Mo/Si多层膜界面。另外,本申请提供的极紫外多层膜的制备方法,制备工艺简单,易于工业化生产。
搜索关键词: 一种 紫外 多层 及其 制备 方法
【主权项】:
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