[发明专利]一种化学机械抛光清洗液及其使用方法在审
| 申请号： | 202110554794.6 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN113462491A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 卞鹏程;卫旻嵩;崔晓坤;王庆伟 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;C11D11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光清洗液及其使用方法，该清洗液包含两种C原子数不同的有机碱、分散助剂、余量为水。本发明的化学机械抛光清洗液是一种用于硅晶圆片抛光垫的清洗液，通过对化学机械抛光后抛光垫的清洗，能够改善抛光后硅晶圆片的表面质量，延长抛光垫的使用时间，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 清洗 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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